A cellulose based dual-tone photoresist patterned via deep x-ray lithography
- Miltscho Andreev (Redner/in)
- Marmiroli, B. (Beitragende/r)
- Schennach, R. (Beitragende/r)
- Amenitsch, H. (Beitragende/r)
Aktivität: Vortrag oder Präsentation › Posterpräsentation › Science to science