Nanoscale electron beam-induced deposition and purification of ruthenium for extreme ultraviolet lithography mask repair

Jo-Hyon Noh, Michael G. Stanford, Bret B. Lewis, Jason D. Fowlkes, Harald Plank, Philip D. Rack*

*Korrespondierende/r Autor/-in für diese Arbeit

Publikation: Beitrag in einer Fachzeitschrift › Artikel › Begutachtung

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