Nanoscale electron beam-induced deposition and purification of ruthenium for extreme ultraviolet lithography mask repair

Jo-Hyon Noh, Michael G. Stanford, Bret B. Lewis, Jason D. Fowlkes, Harald Plank, Philip D. Rack*

*Korrespondierende/r Autor/-in für diese Arbeit

Publikation: Beitrag in einer Fachzeitschrift › Artikel › Begutachtung

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    Functional Nanofabrication

    Dohr, J., Plank, H., Rosker, S., Winkler, R., Stermitz, M., Reisecker, V., Michelitsch, S. G. W., Brugger-Hatzl, M., Schmied, R., Eicher, B., Orthacker, A., Arnold, G., Sattelkow, J., Kolb, F., Ganner, T., Haselmann, U., Seewald, L. & Aschl, T.

    1/01/09 → 31/12/23

    Projekt: Forschungsprojekt