Water-Developable Poly(2-Oxazoline)-Based Negative Photoresists

Verena Schenk, Lisa Ellmaier, Elisabeth Rossegger, Matthias Edler, Thomas Griesser, Gerald Weidinger, Frank Wiesbrock

Institut für Chemische Technologie von Materialien (6380)

Publikation: Beitrag in einer Fachzeitschrift › Artikel › Begutachtung

1 Ergebnisse

Abgeschlossen
Surface chemistry and adhesive properties of designed photoresist polymers
Fimberger, M., Mühlbacher, I., Stelzer, F., Schenk, V. & Wiesbrock, F.
1/01/10 → 31/12/13
Projekt: Forschungsprojekt