Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase

Claus Cagran; Gernot Pottlacher

Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase

Institute of Experimental Physics (5110)

Research output: Contribution to conference › (Old data) Lecture or Presentation

Original language	German
Publication status	Published - 23 Sep 2002
Event	52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft: ÖPG 2002 - Leoben, Austria Duration: 23 Sep 2002 → 26 Sep 2002

Conference

Conference	52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft
Country/Territory	Austria
City	Leoben
Period	23/09/02 → 26/09/02

Thermophysics
Pottlacher, G., Cagran, C. & Wilthan, B.
1/01/82 → …
Project: Research area

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Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase. / Cagran, Claus; Pottlacher, Gernot.

2002. 52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft, Leoben, Austria.

Research output: Contribution to conference › (Old data) Lecture or Presentation

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TY - CONF

T1 - Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase

AU - Cagran, Claus

AU - Pottlacher, Gernot

PY - 2002/9/23

Y1 - 2002/9/23

M3 - (Altdaten) Vortrag oder Präsentation

T2 - 52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft

Y2 - 23 September 2002 through 26 September 2002

ER -

Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase

Conference

Projects

Thermophysics

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