Atmospheric Pressure Ion Deposition (APID) als Technologie zur Herstellung dünner elektroaktiver Filme

Thomas Steindl; Stephan Rentenberger; Marian Goriup; Gertraud Hayn; Daniel Sandholzer; Alexander Pogantsch; Egbert Zojer; Robert Saf

Atmospheric Pressure Ion Deposition (APID) als Technologie zur Herstellung dünner elektroaktiver Filme

Thomas Steindl, Stephan Rentenberger, Marian Goriup, Gertraud Hayn, Daniel Sandholzer, Alexander Pogantsch, Egbert Zojer, Robert Saf

Publikation: Beitrag in Buch/Bericht/Konferenzband › Beitrag in einem Konferenzband › Begutachtung

Originalsprache	deutsch
Titel	10. Österreichische Chemietage
Erscheinungsort	Linz
Herausgeber (Verlag)	.
Seiten	PO83-PO83
ISBN (Print)	3-900 554 35 8
Publikationsstatus	Veröffentlicht - 2002

Dieses zitieren

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TY - GEN

T1 - Atmospheric Pressure Ion Deposition (APID) als Technologie zur Herstellung dünner elektroaktiver Filme

AU - Steindl, Thomas

AU - Rentenberger, Stephan

AU - Goriup, Marian

AU - Hayn, Gertraud

AU - Sandholzer, Daniel

AU - Pogantsch, Alexander

AU - Zojer, Egbert

AU - Saf, Robert

PY - 2002

Y1 - 2002

M3 - Beitrag in einem Konferenzband

SN - 3-900 554 35 8

SP - PO83-PO83

BT - 10. Österreichische Chemietage

PB - .

CY - Linz

ER -