Modification Pathways for Copoly(2-oxazoline)s Enabling Their Application as Antireflective Coatings in Photolithography

Martin Fimberger, Andreas Behrendt, Georg Jakopic, Franz Stelzer, Volkan Kumbaraci, Frank Wiesbrock*

*Korrespondierende/r Autor/-in für diese Arbeit

Publikation: Beitrag in einer Fachzeitschrift › Artikel › Begutachtung

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