Vapour-phase deposition of oriented copper dicarboxylate metal-organic framework thin films

Timothée Stassin, Sabina Rodríguez-Hermida, Benedikt Schrode, Alexander John Cruz, Francesco Carraro, Dmitry Kravchenko, Vincent Creemers, Ivo Stassen, Tom Hauffman, Dirk De Vos, Paolo Falcaro, Roland Resel, Rob Ameloot*

*Korrespondierende/r Autor/-in für diese Arbeit

Publikation: Beitrag in einer FachzeitschriftArtikelBegutachtung

Abstract

Copper dicarboxylate metal-organic framework films are deposited via chemical vapour deposition. Uniform films of CuBDC and CuCDC with an out-of-plane orientation and accessible porosity are obtained from the reaction of Cu and CuO with vaporised dicarboxylic acid linkers.

Originalspracheenglisch
Seiten (von - bis)10056-10059
Seitenumfang4
FachzeitschriftChemical Communications
Jahrgang55
Ausgabenummer68
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 1 Jan. 2019

ASJC Scopus subject areas

  • Katalyse
  • Elektronische, optische und magnetische Materialien
  • Keramische und Verbundwerkstoffe
  • Allgemeine Chemie
  • Oberflächen, Beschichtungen und Folien
  • Metalle und Legierungen
  • Werkstoffchemie

Fingerprint

Untersuchen Sie die Forschungsthemen von „Vapour-phase deposition of oriented copper dicarboxylate metal-organic framework thin films“. Zusammen bilden sie einen einzigartigen Fingerprint.

Dieses zitieren